性能特點如下:ETD-2000C 濺射蒸碳儀是依據(jù)二(DC)直流濺射原理設計而成的,*簡單、可靠、經(jīng)濟的鍍膜設備。同時增加了熱蒸發(fā)附件,具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。
滿足電鏡實驗室的掃描電子顯微鏡(SEM)樣制備和非導體材料實驗電制作。
在 ETD-2000/3000 離子濺射儀基礎上,增加了熱蒸發(fā)附件,可以蒸發(fā)碳絲,具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。因此擴展了應用范圍,特別適用于掃描電鏡實驗室樣制備。
技術參數(shù):*配置參數(shù)如下:儀器尺寸 : 400mm×300mm×400mm(L×W×H)
空樣室: 硼硅酸鹽玻璃 160mm×110mm(D×H)
靶(上部電): 50mm×0.1mm(D×H)
樣臺: 50mm (D)
操作空: 4×10-1mbar至2×10-2mbar
工作電壓: 0-1600V (DC)可調
濺射電流: 0-50mA
濺射定時: 1-9999S
蒸碳電流 0-10A(AC)
空泵: 4升兩機械旋轉泵(限空2×10-2mbar)
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